酸性气体来源广泛，可用于电子、化工、电镀、五金、铝、电工、制药、印染等机械加工行业。产生的酸性气体种类有：盐酸（HCI）、氟化氢气体（HF）、硫酸雾（H2SO4）、铬酸雾（CrO3）、氢氰酸气体（HCN）、硫化氢气体（H2S）、福尔马林（HCHO）等水溶性气体。排放的酸性气体不仅会加剧水污染，还会影响人们的健康。今天，以电子芯片厂为例，介绍酸性气体处理设备和喷淋塔的工作原理。
1芯片厂酸性废气概况 芯片工厂清洗和用各种酸溶液蚀刻芯片的过程中，会产生HF、HCl、硫酸雾等酸性气体。对于芯片厂生产过程中产生的腐蚀性气体（如酸、碱废气）的处理，多数企业采用液体吸收法处理腐蚀性气体。液相吸收法处理废气的关键是酸性气体处理设备的选择。酸性废气一般采用喷淋塔处理，酸性气体采用酸碱中和反应净化。
2酸性气体处理设备喷淋塔的工作原理 喷雾塔净化的原理是将气体中的污染物分离，转化为无害物质，达到净化气体的目的。属于差动接触逆流式。塔体内填料是气液两相接触的基本组成部分。塔外气体进入塔体后，进入填料层。填料层上，顶部有喷淋液，前部有喷淋液，填料上形成一层液膜。当气体通过填料间隙时，与填料的液膜接触，进行吸收或综合反应，该层可提供足够的表面积，而不会对气流造成过大阻力。吸收或整合的气体由除雾器收集，通过出风口排出塔外。
三。芯片厂废气处理工艺说明 生产车间酸洗池产生的酸雾废气经风罩收集后，经管道进入酸气处理设备。酸雾净化塔本体设有两层填料层，并设有两级水浴装置。循环水箱中加入氢氧化钠（碱）中和废气中的酸雾。吸收液通过酸雾处理塔上端的喷嘴均匀地分布填料上，填料的机械强度高、耐腐蚀、孔隙率高、表面积大，废气和吸收液分布填料表面，废气和吸收液有填料表面接触面积大，反应时间长。净化后的气体充满水，经塔顶除雾器除水后直接排入大气。
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